超純水設備核心技術解析
時間：2024-10-30
在全球數字化加速轉型和信息科技競爭加劇的背景下，芯片需求旺盛，導致相關產業鏈產能提升。特別是超純水設備在芯片生產中的重要性，因為芯片製造過程中幾乎每道工序都需要超純水清洗。當前芯片產業使用的超純水設備的核心技術，包括反滲透工藝、EDI模塊和拋光混床工藝，這些技術共同確保了超純水的高品質，滿足了芯片行業的嚴格用水需求。
超純水設備核心技術解析：
反滲透工藝： 反滲透是一種借助於選擇性膜的功能以壓力為推動力的膜分離技術，它能夠有效去除水中溶解鹽類、有機物等，降低離子含量,確保出水水質的安全與純淨。
EDI模塊： 通過電滲析的方式連續產生超純水，進一步提升了超純水設備的性能。該過程無需酸堿再生，自動化程度高，出水電阻率≥17MΩ·CM。
拋光混床工藝： 這是一種專門用於高純度水處理係統的終端精製技術，能夠將水中的離子含量降低至很低的水平，出水電阻率可達18MΩ·CM以上。
綜上所述，超純水設備通過反滲透、EDI模塊以及拋光混床等一係列先進的水處理工藝，不僅能夠有效去除水中的各種雜質和有害物質，還能確保出水水質達到甚至超過行業高標準，為各領域的精密應用提供了可靠的水質保障。
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編輯：虞美人 技術：加菲
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