雙級反滲透係統回用矽片清洗廢水

時間：2022-10-17

　　近年來，矽片產業發展迅速。矽片是製造晶體管和集成電路的原材料。換句話而言，就是矽片是芯片製造的原材料。通常是晶矽的切片，通過光刻和離子注入的方法製成各種半導體器件，是半導體工業中重要的原材料。隨著矽片工業的蓬勃發展，環境汙染問題隨之而來，產生了大量的廢水。生產廢水主要來自多晶矽錠切片過程的清洗環節。多晶矽錠經混酸表麵處理後，在清洗過程中產生含酸廢水。由於表麵處理是硝酸和氫氟酸的混合酸，清洗廢水中的主要汙染物是pH、氟化物和鈣鹽。

　　采用雙級反滲透係統對清洗廢水進行深度處理。通過預處理降低鈣離子和氟離子含量後，可滿足超濾係統進水要求。廢水進入超濾係統，超濾產水進入一級反滲透處理係統，產水進入產水箱，濃水進入二級反滲透係統進一步回收。

　　膜法矽片清洗廢水處理工藝：

　　矽片清洗廢水→預處理→超濾→一級反滲透→二級反滲透→產水

　　兩級反滲透係統法回用矽片清洗廢水中醋酸的過程是純物理常溫操作工藝，無化學反應，能耗低。整套反滲透係統可設計在線再生清洗排汙裝置，降低勞動強度和生產成本，提高生產效率。反滲透係統總回收率控製在75%左右，實現有效回收。膜元件填充麵積大，係統占地麵積小，便於技術改造、擴建或新建項目，降低了生產成本和投資。

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